EVG wprowadza litografię bez masek do produkcji masowej.

LITHOSCALE odpowiada potrzebom litografii na rynkach i w różnych zastosowaniach, które wymagają wysokiego stopnia elastyczności lub różnorodności produktów, w tym zaawansowany montaż, MEMS, biomedycyna i produkcja podłoży IC.

LITHOSCALE? to rewolucyjna, bardzo wszechstronna platforma do litografii naświetlania bez maski, przystosowana do różnorodnych zastosowań mikro fabrykacji obejmujących płytki do 300 mm.

System LITHOSCALE z technologią bezmaskoweego naświetlania EV Group MLE ?  https://www.evgroup.com/technologies/mle-maskless-lithography/ rozwiązuje dotychczasowe wąskie gardła, łącząc potężne przetwarzanie cyfrowe, które umożliwia przesyłanie danych w czasie rzeczywistym i natychmiastową ekspozycję, wysoką rozdzielczość strukturyzacji i skalowalność wydajności. Jego rozwiązanie bezmaskowe eliminuje materiały eksploatacyjne związane z maskami, a system naświetlania z przestrajalnym źródłem lasera półprzewodnikowego został zaprojektowany z myślą o wysokiej redundancji i stabilności w całym okresie eksploatacji z unikalnymi funkcjami auto kalibracji, które minimalizują konserwację. Potężne przetwarzanie cyfrowe w czasie rzeczywistym umożliwia natychmiastową ekspozycję z pliku projektu na podłoże – unikając w ten sposób wielu godzin na konwersję dla każdego projektu maski cyfrowej. LITHOSCALE charakteryzuje się wysoką rozdzielczością (<2 ?m L / S), dynamicznie adresowalną ekspozycją na poziomie struktury całej powierzchni podłoża, co umożliwia sprawne przetwarzanie bez materiałów eksploatacyjnych i niski koszt eksploatacji systemu. System LITHOSCALE integruje pełne centrowanie podłoża krzemowego od góry i od tyłu z wykorzystaniem dedykowanych obiektywów do światła dziennego i podczerwieni oraz opatentowanych projektów uchwytów dostosowanych do rozmiarów płytek do 300 mm. System posiada tryby dynamicznego wyrównywania z automatycznym ogniskowaniem, w celu dostosowania się do materiału podłoża i zmian powierzchni. Zdolność do precyzyjnego kontrolowania pozycji poziomu ostrości utrzymuje ściany boczne strome, a także pożądany trójwymiarowy kontur rezystu, jednocześnie zapobiegając nadbudowywaniu i przechylaniu krawędzi. Duża odległość robocza i automatyczne ogniskowanie adaptacyjne zapewniają jednorodność wzoru na całej naświetlanej powierzchni. Oferuje również zindywidualizowane możliwości przetwarzania struktur, podczas gdy szybkie pozycjonowanie w pełnym polu i dynamiczne wyrównanie zapewniają wysoką skalowalność dla różnych rozmiarów i kształtów podłoża.