Nowy Pioneer: lepsze osiągi, większa użyteczność. Wciąż ta sama, wyjątkowa hybryda EBL-SEM.
To idealne, wielozadaniowe narzędzie dla akademickich środowisk badawczych zajmujących się fotoniką, inżynierią materiałową oraz technologiami kwantowymi.
PIONEER –wielofunkcyjny system litografii wiązką elektronów niemieckiej firmy Raith, łączący profesjonalną nanolitografię z analitycznym obrazowaniem SEM w ramach jednej platformy – jest już dostępny w swojej piątej generacji. Bazując na zaletach, na których polegają naukowcy na całym świecie, nowy model PIONEER wprowadza szereg udoskonaleń w zakresie wydajności i użyteczności, dzięki którym zaawansowana nanofabrykacja staje się jeszcze bardziej efektywna, a urządzenie pozostaje rozwiązaniem o przystępnej cenie.
Lepsze osiągi w codziennych pracach badawczych
Najnowsza generacja systemu PIONEER wprowadza szereg istotnych ulepszeń. Nowy generator wzorów (50 MHz / 20-bit), oparty na technologii FPGA, umożliwia szybsze generowanie wzorów, a udoskonalone parametry techniczne pozwalają uzyskać dokładność łączenia pól (stitching) oraz nakładania warstw (overlay) na poziomie 40 nm (wartość średnia + 3 sigma). Ponadto nowe, zautomatyzowane procedury obsługi kolumny – obejmujące autofokus, autostygmatyzację oraz automatyczną regulację jasności i kontrastu – poprawiają użyteczność systemu i usprawniają codzienną pracę. Funkcje importu danych z oprogramowania przygotowawczego oraz importu plików BMP (do litografii w skali szarości) stanowią uzupełnienie istniejącego pakietu Nanosuite. Nowa opcja śluzy załadowczej (load-lock) dodatkowo zwiększa efektywność przebiegu pracy.
Wszechstronność: jedna platforma, niezliczone możliwości badawcze
Wymagania badawcze nieustannie ewoluują – od nanotechnologii i badań nad zaawansowanymi materiałami po fotonikę i urządzenia kwantowe. System PIONEER wspiera szeroki wachlarz zastosowań dzięki unikalnemu połączeniu możliwości w zakresie litografii, obrazowania i metrologii. Jego elastyczna platforma pozwala naukowcom mierzyć się z różnorodnymi wyzwaniami, korzystając z jednego, zintegrowanego narzędzia, zaprojektowanego z myślą o zaspokojeniu zarówno obecnych, jak i przyszłych potrzeb badawczych.
Zaawansowana nanofabrykacja metodą EBL w połączeniu z doskonałością analityczną SEM
Od momentu wprowadzenia na rynek system PIONEER zajmuje wyjątkową pozycję w dziedzinie nanofabrykacji. W przeciwieństwie do konwencjonalnych zestawów łączących mikroskop elektronowy (SEM) z generatorem wzorów, został on od podstaw zaprojektowany jako prawdziwie hybrydowe rozwiązanie, łączące najnowocześniejszą litografię wiązką elektronów (EBL) z zaawansowanymi możliwościami obrazowania SEM.
Naukowcy mogą wytwarzać, kontrolować, analizować i charakteryzować struktury w ramach jednej zintegrowanej platformy, co ogranicza złożoność procesów i jednocześnie zwiększa ich efektywność. Dedykowany moduł obrotu i nachylenia umożliwia kompleksowe obrazowanie SEM bez uszczerbku w jakości litografii, czyniąc system PIONEER idealnym rozwiązaniem dla akademickich środowisk badawczych.