Nowy system Raith E-LINE
Poznaj nową linię E-LINE 100, sprawdzony i unikalny, wielofunkcyjny system EBL Raith’a do nanoinżynierii, teraz z większą liczbą funkcji i lepszą wydajnością!
Kluczowe cechy:
•Prawdziwa wielofunkcyjność – w całym łańcuchu technologicznym
•Elastyczność i możliwość rozbudowy
•Funkcje zorientowane na aplikacje, które ulepszają i upraszczają litografię poza specyfikacje
•Innowacyjny generator wzorów 50 MHz / 20-bitowy oparty na FPGA
•Rozmiar wiązki: 1,2 nm, łączenie (stitching): 25 nm, nakładanie: 25 nm
•Nowe funkcje autofokusa, stygmatyzacji, jasności i kontrastu
Lepsze parametry, ulepszona wydajność
Nowy E-LINE oferuje nie tylko lepsze parametry rozmiaru wiązki, łączenia i nakładania, ale także znacznie ułatwia pracę z litografią.
Więcej informacji: