Raith Nano2016 22nd seminar on electron and ion beam fabrication for nanotechnology

W dniach: 15.02-17.02.16 w Dortmundzie odbyło się coroczne seminarium firmy Raith. Seminarium to jest przeznaczone dla zainteresowanych elektronolitografią oraz jonolitografią. Podczas seminarium można było się dowiedzieć w jaki sposób urządzenia Raith’a pomagają rozwiązać zadania najbardziej zaawansowanych technologii.


Zaproszeni prelegenci z prestiżowych, europejskich uczelni przedstawili najciekawsze i najważniejsze wyniki ich obecnej pracy badawczej wykonywanej przy pomocy systemów Raith.

 

Prezentacje wygłosili:

  • Georg Schmidt / Martin-Luther-University Halle-Wittenberg, Germany „Electron Beam Lithography with special resist”
  • Dan Read / Cardiff University,UK „Electron beam lithography for condensed matter physics research at Cardiff University”
  • Denis Presnov / Moscow State University, Russia „Electron Beam Lithography on the chip edge for the local probe with active nanosensor”
  • Janne Laukkanen / University of Eastern Finland, Joensuu, Finland „Micro- and Nanostructures for Photonics Applications”
  • Claus J. Burkhardt / NMI Naturwissenschaftliches und Medizinisches Institut, Reutlingen, Germany „FIB for rapid prototyping of nano sensors”