Opis:

RAITH150 Two – przyjazny dla środowiska system bezpośredniego wytwarzania wzoru firmy Raith o ultra wysokiej rozdzielczości

Od momentu wprowadzenia na rynek RAITH150Two stał się bestsellerem wśród uniwersalnych systemów litografii elektronowej o wysokiej rozdzielczości. Znajduje zastosowanie w ośrodkach badawczych i ośrodkach nanotechnologii na całym świecie.

RAITH150 Two naświetla struktury mniejsze niż 5 nm. Obsługę procesu i dokumentację umożliwiają doskonałe właściwości skaningowego mikroskopu elektronowego (SEM). RAITH150 Two współpracuje z próbkami o wielkości od kilku mm do 8-calowych płytek silikonowych.

Stabilność systemu, nawet w trudnych warunkach, wymagana przy wymagających ekspozycjach, jest możliwa dzięki stabilnej termicznie i tolerancyjnej obudowie.